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    飛納電鏡將出席 2018 壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工年會

     更新時間:2018-11-23 點擊量:7889

    2018年(第九屆)中國壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工年會繼續(xù)圍繞“壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工”為學術主題。本次年會,是繼2001年在山東煙臺、2003年在廣東深圳、2005年在浙江寧波、2007年在重慶、2009年在廣東深圳、2012年在蘇州、2014年在廣州、2016年在江蘇南通之后舉行的第九次中國壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工學術年會,是一次高水平的學術交流和技術交流會議,也將是對近年來中國在壓鑄、擠壓鑄造和半固態(tài)加工等方面科技成果的一次大檢閱。

     

    飛納電鏡期待與參會人員就掃描電鏡在壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工的應用進行詳細討論。誠摯邀請參會人員蒞臨飛納電鏡展位參觀指導。

     

    會議時間:2018 年 11 月 23 日 - 26 日
    會議地點:廣東珠海德翰大酒店

     

    會議主題

     

    1. 鋁、鎂、鈦、鋅、銅等合金及復合材料;
    2. 壓鑄、低壓鑄造、擠壓鑄造、差壓鑄造、半固態(tài)加工工藝;
    3. 壓鑄機、低壓鑄造機、擠壓鑄造機、差壓鑄造機、半固態(tài)加工設備;
    4. 模具;
    5. 涂料、脫模劑;
    6. 熔煉、精煉;
    7. CAD/CAM/CAE;
    8. 數(shù)值模擬;
    9. 檢測及過程控制;市場與管理;
    10. 金屬微連接成形;
    11. 結構強度輕合金的開發(fā)、成形與應用。

     

    飛納臺式掃描電鏡在金屬領域的應用

     

     

    一、金相樣品背散射成像分析

     

    飛納電鏡背散射探頭成像可以顯示出材料的成分襯度,而背散射探頭屬于被動信號采集,對燈絲亮度有著*的要求。飛納電鏡采用高亮度 CeB6 燈絲或肖特基場發(fā)射電子源,使其背散射成像可以反映更多材料信息,同時也保證優(yōu)異的二次電子形貌像。

     

    圖1. 為金相樣品的背散射成像。沿著箭頭方向從內(nèi)到外可以看到 4 種不同的成分襯度,且分界線非常明顯。代表這4個位置不同種類元素的含量各不相同,并且沿著箭頭方向,重元素占比越來越低。

     

     

    二、污染、夾雜等缺陷能譜分析

     

    壓鑄工件由于原材料、脫模劑、工藝控制等原因,往往存在污點、霉斑或夾渣等缺陷。在進行缺陷分析時,需要通過能譜測定成分種類,進而判定缺陷產(chǎn)生的原因,為工藝調(diào)整提供指導。

     

    得益于良好的燈絲亮度、超薄氮化硅窗口和大面積能譜活性面積,飛納電鏡在能譜分析中有著出色表現(xiàn)。通過能譜面掃可以獲取材料元素的分布情況,如圖 2 所示。

     

     

    三、失效工件的分析

     

    在失效分析中,背散射成像與二次電子成像各有優(yōu)勢:背散射成像可以看到不同的成分襯度,二次電子成像在刻畫表面形貌起伏時更具立體感,細節(jié)更豐富。結合兩種成像模式,可以更準確的反映出材料的結構特征、雜質(zhì)種類和失效機理。

     

       

    鑄件中析出物背散射電子圖像和二次電子圖像

     

        

    斷口背散射電子圖像和二次電子圖像

     

    四、飛納電鏡全景拼圖

     

    飛納電鏡大樣品室版 Phenom XL,有較大的倉室空間,方便觀察大件樣品。同時配有全景拼圖功能,可以得到極大視野的掃描電鏡圖像,大小隨心,一覽無余。

     

       

     

    五、、便捷、穩(wěn)定

     

    飛納電鏡全自動操作、15秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3年更換燈絲等特點,無需防震環(huán)境,可放置在任意樓層,能譜無外接部件,無需液氮冷卻。、便捷、穩(wěn)定的優(yōu)勢,幫助用戶在保證檢測質(zhì)量的前提下,大幅提升工作效率。

    目前,飛納電鏡已入駐多家高校、研究所和企業(yè),助力金屬領域的研究與開發(fā)。

     

     

    傳真:

    郵箱:info@phenom-china.com

    地址:上海市閔行區(qū)虹橋鎮(zhèn)申濱路 88 號上海虹橋麗寶廣場 T5,705 室

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